真空镀膜加工中离子涂层的优点

你听说过离子镀吗？真空镀膜加工中的真空离子镀与普通离子镀有什么区别？接下来，小编将简要介绍这两个

种离子镀的区别！

蒸发物质的分子在电子碰撞和电离后以离子的形式沉积在固体表面，称为离子镀，这是一种普通的离子镀。真空离子镀是真空蒸发和阴极溅射技术的结合。该离子镀系统以基体材料为阴极，外壳为阳极，充满惰性气体（如氩气），产生辉光放电。当蒸发源蒸发的分子通过等离子体区域时，电离。正离子被负电压加速到基体材料表面。未电离的中性原子也会沉积在基板或真空室壁表面。电场对离化蒸汽分子的加速作用（离子能量约为数百~数千电子伏）和氩离子对基板的溅射作用大大提高了膜的附着强度。离子镀工艺结合了蒸发（高沉积速嘲笑和溅射）的特点，具有良好的绕射性，可用于形状复杂的工件涂层。

以上是真空镀膜加工中离子涂层的优点。