增强镀层的附着力：真空电镀行业面临的瓶颈

真空电镀是一种通过在金属表面沉积层来改善其性质和外观的加工方式。然而，真空电镀行业通常面临着镀层附着力不足的问题。如果镀层附着力不好，就会导致产品出现脱层、剥落和防腐性能差等问题，影响产品的使用寿命和质量。

以下是一些常见的真空电镀行业面临的增强镀层附着力的瓶颈：

不良的表面处理：在电镀之前，金属表面必须进行一系列处理，如清洗、喷砂、钝化等。如果这些步骤不正确或不全面，就会导致金属表面存在油污、脱脂不彻底等问题，从而影响镀层的附着力。

错误的真空电镀参数：电镀过程中，涉及到电流密度、镀液温度、PH值、电解质浓度等多个参数。如果这些参数设置不当，就会导致镀层过薄、结晶不良等问题，从而影响附着力。

镀层材料的选择不当：不同的金属需要选择不同的镀层材料，例如钴、镍、铬、铜等。如果选择不当，就会导致金属表面与镀层材料之间的化学反应不够强，从而影响附着力。

金属表面存在微观缺陷：金属表面可能会受到划痕、凹陷、裂痕等微观缺陷的影响，这些缺陷会影响到镀层的附着力。这就需要在表面处理前修复这些缺陷。

为了增强镀层的附着力，真空电镀行业需要在每个工序中重视细节和质量控制。表面处理、电镀参数、镀层材料的选择、修复金属表面的缺陷都是必须注意的问题，只有这样才能获得更好的电镀表面质量和优良的性能。