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不同气压下真空电镀对金属表面结构与性能的影响

不同气压下真空电镀对金属表面结构与性能的影响

发布日期:2023-05-23 浏览次数:237

真空电镀技术广泛适用于金属表面涂层,并且在涂层制备过程中,气压是一个非常重要的参数。由于不同气压条件下电镀涂层的成份和属性可能会发生显着变化,因此研究不同气压条件下真空电镀对涂层性质和结构的影响,对于优化电镀工艺以及提高涂层质量和性能具有重要意义。

一、不同气压对电镀涂层表面形貌的影响 随着气压下降,电镀膜表面颗粒尺寸和表面平整度会增加。这是由于气压减小,形成电镀膜的粒子之间的空气分子数目也减小,此时粒子成膜速度变慢,发生聚集和生长,因而导致表面颗粒尺寸增加。

二、不同气压对电镀涂层结构的影响 随着气压下降,电镀膜的晶体结构变得更加致密、均匀。此外,X射线衍射实验证实,0.5 Pa气压下制备的电镀膜具有最好的结晶性。这是由于气压减小使得电极表面活性物质扩散性能降低,有助于扩散产生热、化学反应、重排、重新结晶和表面原子的迁移等各种现象,从而产生更为完整和致密且晶粒尺寸更小的晶体结构。

三、不同气压对电镀涂层硬度和抗腐蚀性能的影响 不同气压也会影响电镀涂层的硬度和抗腐蚀性能。随着气压下降,电镀膜的硬度增加,这是由于电镀膜表面颗粒尺寸增大、成膜速度减慢等因素所致。相反,电镀膜的抗腐蚀性能随着气压下降而提高,在盐水环境中制备的0.5 Pa气压下电镀膜表现出最好的防腐蚀性能。

综上所述,不同气压条件下真空电镀会导致电镀膜的表面形貌、结构、硬度和耐腐蚀性能有所不同。了解这些变化和对其进行调整,有助于优化电镀工艺,提高涂层的质量和性能。

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